DMM-1200微分干涉金相顯微鏡（DIC)采用優質的無限遠光學系統，微分干涉相襯顯微鏡適用于對多種物體的顯微觀察。配置落射DIC觀察系統與透射照明系統、無限遠長距平場消色差物鏡、大視野目鏡和偏光觀察裝置，具有圖像立體感且清晰、造型美觀，操作方便等特點，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子學等研究的理想儀器，可選用微分干涉（DIC）觀測、獲得高清晰的圖像，使圖像襯度更好,是針對半導體晶圓檢測、太陽能硅片制造業、電子信息產業、治金工業開發的，作為高級工業金相顯微鏡使用;可進行明場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對太陽能電池硅片、半導體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
一、 DMM-1200C型微分干涉金相顯微鏡的主要用途和特點：
DMM-1200微分干涉金相顯微鏡（DIC)采用優質的無限遠光學系統，微分干涉相襯顯微鏡適用于對多種物體的顯微觀察。配置落射DIC觀察系統與透射照明系統、無限遠長距平場消色差物鏡、大視野目鏡和偏光觀察裝置，具有圖像立體感且清晰、造型美觀，操作方便等特點，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子學等研究的理想儀器，可選用微分干涉（DIC）觀測、獲得高清晰的圖像，使圖像襯度更好,是針對半導體晶圓檢測、太陽能硅片制造業、電子信息產業、治金工業開發的，作為高級工業金相顯微鏡使用;可進行明場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對太陽能電池硅片、半導體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
DMM-1200C電腦型微分干涉金相顯微鏡是將精銳的光學顯微鏡技術、先進的光電轉換技術、尖端的計算機成像技術完美地結合在一起而開發研制成功的一項高科技產品。既可人工觀察金相圖像,又可以在計算機上很方便地適時觀察金相圖像，并可隨時拍攝記錄金相圖片,從而對金相圖譜進行分析,評級等,還可以保存或打印出高像素金相照片。
二、微分干涉金相顯微鏡儀器的主要技術指標
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金相顯微鏡組件及規格 |
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光學系統 |
無窮遠光學系統 |
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主機 |
DMM-1200正置金相顯微鏡主機 |
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目鏡 |
大視野 |
WF10X(Φ22mm) |
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WF15X(Φ16mm) |
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WF20X(Φ12mm) |
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平場分劃 |
10X/Φ20mm(0.10mm/格值) |
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物鏡 |
無限遠長工作距離平場消色差 |
放大倍數/數值孔徑 |
有效工作距離 |
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PL5X/0.12 |
26.1 |
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PLL10X/0.25 |
20.2 |
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PLL20X/0.4 |
8.8 |
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PLL40X/0.6 |
3.98 |
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目鏡筒 |
三目鏡 |
鉸鏈式，傾斜30度，分光比：觀察80% 攝影20%；或觀察100% 攝影100% |
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濾片組 |
全系列濾色片 |
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物鏡轉換器 |
五孔物鏡轉換器(內向式滾珠內定位) |
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調焦機構 |
同軸粗微動調焦機構,帶鎖緊和限位裝置, 調焦范圍30mm 微動格值0.8μm |
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載物臺 |
臺面尺寸：280mm*270mm; |
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移動范圍：橫向（X）204mm，縱向（Y）204mm |
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照明系統 |
落射照明12V/50W，鹵素燈，中心、亮度連續可調 |
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透射照明大功率LED燈照明,亮度可調,阿貝聚光鏡 NA.1.25 可上下升降,藍濾色片和磨砂玻璃,集光器(內置視場光欄) |
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偏光裝置 |
起偏振器，可360度旋轉，可推拉切換 |
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檢偏振器，可推拉切換 |
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微分干涉觀察 |
可使用于5X、10X、20X |
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電腦型攝像系統CK-500 |
500萬像素數字成像系統，最高分辨率2592H x 1944V 連接簡單：USB2.0 圖像質量好,色彩還原性好 ,圖像穩定,具備多種圖像處理方法。攝像機相關參數：500萬像素數字攝像機,標準C接口，倍率：1X 傳感器類型：MT9T001 鏡頭接口:標準C接口 掃描模式: 逐行掃描 CCD尺寸:1/2英寸 像素點:3.2微米 x 3.2微米 動態范圍>61dB 分辨率:2592H x 1944V 濾光片: R, G, B 濾光片 最大幀率: 8幀每秒(2592*1944) 30幀每秒(640*480) 曝光控制:自動、手動 信噪比：43dB 電源:USB供電 曝光時間: 1毫秒-0.3秒 參數調整:圖像尺寸、亮度、增益、曝光、色彩等 白平衡:自動、手動 USB 電源： USB2.0
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四、系統的組成 ：
1、金相顯微鏡DMM-1200 2、0.5倍電腦適配鏡
3、彩色數字攝像機CK-500 4、計算機（選購）
五、儀器選購件：
1、無限遠長距平場消色差明暗場物鏡： PLL50X； PLL60X ；PLL80X；PL100X
2、攝影接口：0.5X攝像接口
3、攝像機： CK-1600像素攝像機，進口CCD芯片攝像系統
4、數碼相機拍照系統：包含數碼相機及專業相機接口
5、金相分析軟件DM-3000
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